超声波清洗机中常用的清洗剂包括水基清洗剂、半水基清洗剂和有机溶剂清洗剂。‌

  ‌水基清洗剂‌：以水为基体溶剂，能添加特殊的比例的酸、碱、盐、表面活性剂、螯合剂等配成溶液。水基清洗剂对极性类和离子类污染物有很强的清洗能力，且由于水的获取方便、价格低，因此在工业超声波清洗中得到了广泛应用‌。

  ‌半水基清洗剂‌：在有机溶剂中加入了水或者表面活性剂形成的溶液，也被称为乳状液清洗剂或微乳状液清洗剂。它结合了有机溶剂清洗剂和水基清洗剂的优点，既保持了原溶剂型清洗剂对油污清洗力强、对基体润湿渗透好的优点，又提高了对水性污垢的去除能力‌。

  ‌有机溶剂清洗剂‌：主要由有机溶剂组成，如丙酮、醇类、氯化烃等。这些溶剂能快速溶解油脂、胶黏剂、树脂等有机污染物。有机溶剂清洗剂适用于清洗对水敏感或无法用水清洗的物体，如电子元件、精密仪器、光学器件等‌。

  ‌水基清洗剂‌：由于主要成分是水，因此对环境影响较小，但使用的过程中仍需注意排放和处理。

  ‌半水基清洗剂‌：由于含有有机溶剂，处理不当可能会对环境能够造成一定影响，但相对于纯有机溶剂清洗剂，其污染性较小。

  ‌有机溶剂清洗剂‌：如丙酮、醇类、氯化烃等，这些溶剂具有较高的挥发性和毒性，处理不当会对环境和人体健康造成较大影响。因此，在使用这一些清洗剂时需要非常注意安全操作和排放处理‌。返回搜狐，查看更加多